химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении
- химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении
- LPCVD
- low-pressure chemical vapor deposition
химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении
—
[А.С.Гольдберг. Англо-русский энергетический словарь. 2006 г.]
Тематики
EN
- low-pressure chemical vapor deposition
- LPCVD
Русско-английский словарь нормативно-технической терминологии.
academic.ru.
2015.
Смотреть что такое "химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении" в других словарях:
химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении — — [А.С.Гольдберг. Англо русский энергетический словарь. 2006 г.] Тематики энергетика в целом EN low pressure chemical vapor depositionLPCVD … Справочник технического переводчика
химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении — cheminis garinis nusodinimas mažesniame slėgyje statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reduced pressure chemical vapor deposition vok. chemische Abscheidung aus der Gasphase bei reduziertem Druck, f rus. химическое осаждение из… … Radioelektronikos terminų žodynas
химическое осаждение из паровой фазы при низком давлении — Процесс химического осаждения из паровой фазы, выполняемый при пониженном (по сравнению с атмосферным) давлении [http://www.cscleansystems.com/glossary.html] Тематики полупроводниковые приборы EN LPCVDLow Pressure Chemical Vapor Deposition … Справочник технического переводчика
плазменно-химическое осаждение из газовой фазы — Термин плазменно химическое осаждение из газовой фазы Термин на английском plasma enhanced chemical vapor deposition Синонимы плазмохимическое газофазное осаждение, осаждение из паровой фазы, стимулированное плазмой Аббревиатуры PECVD, ПХО, ПХГФО … Энциклопедический словарь нанотехнологий
Осаждение металлорганических соединений из газообразной фазы — Химическое осаждение из газовой фазы с использованием металлорганических соединений (анг. Metalorganic chemical vapour deposition) метод получения материалов, в том числе эпитаксиального роста полупроводников, путём термического разложения… … Википедия
cheminis garinis nusodinimas mažesniame slėgyje — statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reduced pressure chemical vapor deposition vok. chemische Abscheidung aus der Gasphase bei reduziertem Druck, f rus. химическое осаждение из паровой фазы при пониженном давлении, n pranc.… … Radioelektronikos terminų žodynas
chemische Abscheidung aus der Gasphase bei reduziertem Druck — cheminis garinis nusodinimas mažesniame slėgyje statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reduced pressure chemical vapor deposition vok. chemische Abscheidung aus der Gasphase bei reduziertem Druck, f rus. химическое осаждение из… … Radioelektronikos terminų žodynas
dépôt chimique en phase vapeur à pression réduite — cheminis garinis nusodinimas mažesniame slėgyje statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reduced pressure chemical vapor deposition vok. chemische Abscheidung aus der Gasphase bei reduziertem Druck, f rus. химическое осаждение из… … Radioelektronikos terminų žodynas
reduced-pressure chemical vapor deposition — cheminis garinis nusodinimas mažesniame slėgyje statusas T sritis radioelektronika atitikmenys: angl. reduced pressure chemical vapor deposition vok. chemische Abscheidung aus der Gasphase bei reduziertem Druck, f rus. химическое осаждение из… … Radioelektronikos terminų žodynas